背光模組無(wú)塵車(chē)間技術(shù)又稱(chēng)為生產(chǎn)環(huán)境和污染控制技術(shù)，是近二、三十年來(lái)隨著高新技術(shù)發(fā)展起來(lái)的一門(mén)綜合性的新興科學(xué)技術(shù)。背光模組無(wú)塵車(chē)間技術(shù)專(zhuān)門(mén)研究并提供潔凈的生產(chǎn)工藝環(huán)境和生產(chǎn)過(guò)程中使用的各種高純介質(zhì)，有效地控制微量雜質(zhì)，以保證高科技產(chǎn)品的成品率和可*性。背光模組無(wú)塵車(chē)間技術(shù)通常包括：空氣背光模組無(wú)塵車(chē)間、空調(diào)技術(shù)、水純化技術(shù)、氣體純化技術(shù)、微量雜質(zhì)控制技術(shù)、潔凈環(huán)境的監(jiān)測(cè)技術(shù)及相關(guān)的環(huán)境質(zhì)量的控制技術(shù)。背光模組無(wú)塵車(chē)間技術(shù)在電子、核子、航空航天、生物工程、制藥、精密機(jī)械、化工、食品、汽車(chē)制造等高科技工業(yè)領(lǐng)域及現(xiàn)代科學(xué)領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用。

　　對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備來(lái)講，背光模組無(wú)塵車(chē)間技術(shù)在微電子技術(shù)中起著十分重要的作用。微電子技術(shù)的核心是集成電路，而集成電路的生產(chǎn)對(duì)其工藝環(huán)境和工藝流程中的背光模組無(wú)塵車(chē)間和設(shè)備提出了嚴(yán)格的要求。我國(guó)“九五”期間大力發(fā)展以微電子為重點(diǎn)的信息產(chǎn)業(yè)。背光模組無(wú)塵車(chē)間技術(shù)水平在某種意義上已成為衡量一個(gè)國(guó)家和地區(qū)科學(xué)技術(shù)水平和工業(yè)水平的一個(gè)重要標(biāo)志。

　　隨著我國(guó)人民生活水平提高，人們對(duì)生存環(huán)境及生活質(zhì)量提出了越來(lái)越高要求，用水純化設(shè)備制備的高純水已受到人們普遍歡迎，背光模組無(wú)塵車(chē)間技術(shù)已開(kāi)始進(jìn)入千家萬(wàn)戶，進(jìn)入人們的現(xiàn)代生活。?

　　我國(guó)的背光模組無(wú)塵車(chē)間技術(shù)和設(shè)備與國(guó)外先進(jìn)國(guó)家相比差距是明顯的，我國(guó)1965年才開(kāi)始生產(chǎn)的HEPA過(guò)濾器，比國(guó)外晚了十五年。1975年開(kāi)始生產(chǎn)的光散射塵埃粒子計(jì)數(shù)器比國(guó)外晚了二十年。0．1微米背光模組無(wú)塵車(chē)間技術(shù)和設(shè)備在國(guó)際上先進(jìn)國(guó)家已成為成熟技術(shù)，我國(guó)則剛剛起步。?

　　世界各工業(yè)先進(jìn)國(guó)家為適應(yīng)超凈技術(shù)的發(fā)展，對(duì)大量使用的高效過(guò)濾器的研究從未中斷，幾年來(lái)一直在開(kāi)發(fā)不同結(jié)構(gòu)不同性能的新產(chǎn)品，美國(guó)自1979年開(kāi)始研制0．1微米ULPA過(guò)濾器，1984年美國(guó)AAF公司開(kāi)始生產(chǎn)0．1微米無(wú)隔板ULPA過(guò)濾器，目前0．1微米ULPA過(guò)濾器在美國(guó)AAF公司、FLANDERS公司和CAMBRIDGE公司已形成商品化生產(chǎn)。日本也已成為世界上生產(chǎn)0．1微米ULPA過(guò)濾器廠家最多的國(guó)家，品種繁多，產(chǎn)品系列化，尤其是低壓損型0．1微米ULPA過(guò)濾器的開(kāi)發(fā)成功解決了初阻力大的技術(shù)難題。國(guó)際市場(chǎng)對(duì)高效空氣過(guò)濾器的需求量很大，且每年均有增長(zhǎng)，目前日本每年銷(xiāo)售超過(guò)100萬(wàn)臺(tái)，按每臺(tái)平均價(jià)格200美元計(jì)算，銷(xiāo)售額達(dá)2億美元。我國(guó)高效空氣過(guò)濾器市場(chǎng)需求量已接近每年10萬(wàn)臺(tái)，占國(guó)際市場(chǎng)的2％~4％，但至今還沒(méi)有0．1微米ULPA過(guò)濾器生產(chǎn)，用于超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)潔凈廠房及各種高科技領(lǐng)域潔凈廠房的0．1微米ULPA過(guò)濾器目前還要依賴(lài)進(jìn)口。

　　在潔凈室建設(shè)規(guī)模和技術(shù)水平上，我國(guó)與先進(jìn)國(guó)家差距更大。日本清水建設(shè)公司一家，1982年到1987年期間承建的潔凈室面積達(dá)71．8萬(wàn)平方米，而我國(guó)目前一年承建的潔凈室總面積還不到10萬(wàn)平方米，但八五期間有較大發(fā)展，1993年承建潔凈室總面積已接近15萬(wàn)平方米。美國(guó)的潔凈室建設(shè)規(guī)模更大，1998年統(tǒng)計(jì)已達(dá)188．5萬(wàn)平方米。在潔凈工程技術(shù)水平上，80年代末期，國(guó)外已大量建成0．1微米級(jí)的超凈室，1987年日本三洋新瀉工場(chǎng)建成十級(jí)潔凈廠房3000平方米，NIT原木則建成了四個(gè)1000平方米控制0．1微米塵埃的千級(jí)廠房，換氣次數(shù)高達(dá)300次／分。美國(guó)在臺(tái)灣的TSMCS新廠已建成第四代管道式潔凈室總面積達(dá)10000平方米。我國(guó)使用的0，1微米十級(jí)潔凈室主要依賴(lài)從國(guó)外進(jìn)口。由于高潔凈級(jí)別的潔凈室造價(jià)十分昂貴，0．1微米十級(jí)潔凈室每平方米造價(jià)高達(dá)1萬(wàn)美元以上。在大規(guī)模集成電路制造裝備的投資中潔凈廠房占有相當(dāng)高的比例，這與集成電路工藝不斷更新，產(chǎn)品更新?lián)Q代周期越來(lái)越快的發(fā)展趨勢(shì)不相適應(yīng)，嚴(yán)重制約了大規(guī)模集成電路技術(shù)的發(fā)展。美國(guó)ASYST公司、德國(guó)MW公司發(fā)展的使用隔離技術(shù)的亞微米生產(chǎn)微環(huán)境系統(tǒng)設(shè)備和技術(shù)在近幾年中得到廣泛采用。該項(xiàng)最新的背光模組無(wú)塵車(chē)間技術(shù)在100級(jí)潔凈度的潔凈廠房中，采用工藝設(shè)備局部使用隔離技術(shù)的微環(huán)境，把投資比例壓縮到高級(jí)別的微環(huán)境，消除了操作者與工藝設(shè)備運(yùn)行的二次污染源產(chǎn)生對(duì)集成電路成品率和可*性的影響作用。

　　背光模組無(wú)塵車(chē)間技術(shù)和裝備的國(guó)際市場(chǎng)十分巨大，日本到80年代末、90年代初背光模組無(wú)塵車(chē)間技術(shù)和設(shè)備的銷(xiāo)售額已突破35億美元。美國(guó)和西歐等先進(jìn)國(guó)家潔凈設(shè)備和基礎(chǔ)部件的銷(xiāo)售額已達(dá)73億美元。據(jù)中國(guó)電子專(zhuān)用設(shè)備工業(yè)協(xié)會(huì)統(tǒng)計(jì)，我國(guó)主要八家最大的凈化設(shè)備廠的銷(xiāo)售額1990年為8217萬(wàn)元，還不足1億，1993年達(dá)到14495萬(wàn)元，占國(guó)際市場(chǎng)銷(xiāo)售額的0．34％。但隨著我國(guó)高新技術(shù)的迅速發(fā)展和微電子工業(yè)、光纖工業(yè)、液晶顯示工業(yè)及光電器件工業(yè)、生物工程、醫(yī)藥工業(yè)的發(fā)展，我國(guó)潛在的巨大的背光模組無(wú)塵車(chē)間技術(shù)產(chǎn)品市場(chǎng)，以每年40％~50％的增長(zhǎng)速度在增加。